LDW-T系列

发布日期:2016-2-25
高精度专业级无掩膜直写光刻设备
应用于大规模集成电路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工
高精度工作平台,可实现8英寸的基底尺寸(可扩展)
配备高精度套刻和背面对准功能
高产能曝光
可接受客制化订制